Сотрудники нашего коллектива восстановили работу лабораторного CVD-реактора
Данное оборудование позволяет получать углеродные наноматериалы методом газофазного химического осаждения. В методе CVD (Chemical Vapor Deposition) или метод газофазного химического осаждения углеводородные газы подвергаются каталитическому разложению на активных металлических катализаторах. Эти активные металлические катализаторы необходимо наносить на материал подложки, чтобы препятствовать спеканию металла и обеспечить большую доступность активных центров благодаря равномерному распределению по подложке. Многие материалы, такие как нитрид кремния, диоксид кремния, некристаллический кремний и монокристаллический кремний, могут быть нанесены методом CVD. Также с помощью данного метода можно синтезировать различные нанокомпозиционные материалы.